中國三氟化氮行業(yè)產(chǎn)量統(tǒng)計(jì)及市場現(xiàn)狀分析

    三氟化氮是一種工業(yè)特種氣體,其主要用作推進(jìn)劑(火箭)、氟化劑、電子氣、等離子干刻及用于摻雜、激光、光導(dǎo)纖維。
    純凈的NF3氣體是一種無色無味的氣體，當(dāng)混入一定量的雜質(zhì)氣體后顏色發(fā)黃，同時會有發(fā)霉或刺激性氣味。NF3氣體不可燃，但能助燃。當(dāng)溫度超過350℃時，三氟化氮?dú)怏w會緩慢分解，分解時產(chǎn)生強(qiáng)氧化性氟，因此，在高溫下它是一種強(qiáng)氧化劑。
    三氟化氮是用作氟化氫－氟化氣高能化學(xué)激光器的氟源，在h2-O2與F2之間反應(yīng)能的有效部分（約25％）可以以激光輻射釋放出，所HF-OF激光器是化學(xué)激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微電子工業(yè)中一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，對硅和氮化硅蝕刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對表面無污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成電路材料的蝕刻中，三氟化氮具有非常優(yōu)異的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時也是非常良好的清洗劑。隨著納米技術(shù)的發(fā)展和電子工業(yè)大規(guī)模的發(fā)展技術(shù)，它的需求量將日益增加。
    三氟化氮是一種無色、無味、無毒且不可燃的氣體，在半導(dǎo)體加工、太陽能電池制造和液晶顯示器制造中得到廣泛應(yīng)用，主要作為刻蝕劑、清洗劑、以及制備WF6的氟化劑。也在火箭發(fā)射中作為氧化劑以及推進(jìn)劑。其在不同應(yīng)用領(lǐng)域中應(yīng)用量的比例如下：

資料來源：博思數(shù)據(jù)整理

    博思數(shù)據(jù)發(fā)布的《2018-2023年中國三氟化氮(NF3)市場分析與投資前景研究報(bào)告》，國三氟化氮產(chǎn)業(yè)發(fā)展大體上分三個階段:最早是用于國防工業(yè),主要是少量生產(chǎn)自用;其次是上世紀(jì)末隨著經(jīng)濟(jì)的發(fā)展,三氟化氮產(chǎn)業(yè)化的研究迅猛發(fā)展,電子工業(yè)用三氟化氮相繼問世;第三個階段是近年在電子工業(yè)迅猛發(fā)展的推動下,國內(nèi)三氟化氮的生產(chǎn)線相繼投產(chǎn),其制造水平已與國外發(fā)達(dá)國家水平相當(dāng)。國內(nèi)主要生產(chǎn)企業(yè)及產(chǎn)能列于下表。

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